E gun
●儀器名稱：E-gun evaporator蒸鍍機
●管理人：林丕晟
●儀器簡介：
其原理是利用高壓放電使通入之反應氣體激發產生電漿(Plasma)，並將其局限在一小腔體內，再利用偏壓或其它方式，將離子束引至鍍膜基板進行離子轟擊，由離子源所發射出來的大質量且大動能的離子，藉著碰撞把動量傳給由電子槍所蒸發的原子或是分子，使它們有足夠的大動能，來改善鍍膜層與基板間的附著力及提高臨界成核生長的速率與密度，因此在膜層的成型與成長過程中，能使蒸發的原子或是分子能夠把孔洞等膜質缺陷補起來，形成膜質緻密、缺陷少的連續膜。因為膜質緻密，即其堆積密度(Packing Density) 升高、膜質的吸水性變小，使得光學光譜特性穩定而不漂移，折射率升高而穩定且均勻及粗糙度降低等優點。因此對於不能加溫的基板如塑膠基板，離子助鍍可使其大部份的膜層設計變得可能與容易實現，對於大體積的基板因可不用再加熱，故可以減少加熱與退溫的時間而提高生產效率。
●管理人：林丕晟
●儀器簡介：
其原理是利用高壓放電使通入之反應氣體激發產生電漿(Plasma)，並將其局限在一小腔體內，再利用偏壓或其它方式，將離子束引至鍍膜基板進行離子轟擊，由離子源所發射出來的大質量且大動能的離子，藉著碰撞把動量傳給由電子槍所蒸發的原子或是分子，使它們有足夠的大動能，來改善鍍膜層與基板間的附著力及提高臨界成核生長的速率與密度，因此在膜層的成型與成長過程中，能使蒸發的原子或是分子能夠把孔洞等膜質缺陷補起來，形成膜質緻密、缺陷少的連續膜。因為膜質緻密，即其堆積密度(Packing Density) 升高、膜質的吸水性變小，使得光學光譜特性穩定而不漂移，折射率升高而穩定且均勻及粗糙度降低等優點。因此對於不能加溫的基板如塑膠基板，離子助鍍可使其大部份的膜層設計變得可能與容易實現，對於大體積的基板因可不用再加熱，故可以減少加熱與退溫的時間而提高生產效率。